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銀漿料高速分散機(jī)

銀漿料高速分散機(jī)

產(chǎn)品型號: GR2000

所屬分類:高速剪切分散機(jī)

更新時(shí)間:2025-11-29

簡要描述:銀漿料高速分散機(jī), GRS設(shè)備的定轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)采用多層多向剪切概念,裝配式結(jié)構(gòu)使物料得到不同方向剪切分散,杜絕了短路現(xiàn)象,超細(xì)分散更為*。

詳細(xì)說明:

產(chǎn)品關(guān)鍵詞概述:銀漿料高速分散機(jī),鋁銀漿高速分散機(jī),納米銀分散設(shè)備,高速銀漿分散機(jī),德國納米分散機(jī)


銀漿系由高純度的(99.9% )金屬銀的微粒、粘合劑、溶劑、助劑所組成的一種機(jī)械混和物的粘稠狀的漿料。導(dǎo)電銀漿對其組成物質(zhì)要求是十分嚴(yán)格的。其品質(zhì)的高低、含量的多少,以及形狀、大小對銀漿性能都有著密切關(guān)系。
  銀微粒的大小與銀漿的導(dǎo)電性能有關(guān)。在相同的體積下,微粒大,微粒間的接觸幾率偏低,并留有較大的空間,被非導(dǎo)體的樹脂所占據(jù),從而對導(dǎo)體微粒形成阻隔,導(dǎo)電性能下降。反之,細(xì)小微粒的接觸幾率提高,導(dǎo)電性能得到改善。微粒的大小對導(dǎo)電性的影響,從上述情況來看,只是一種相對的關(guān)系。由于受加工條件和絲網(wǎng)印刷
方式的影響,既要滿足微粒順利通過絲網(wǎng)的網(wǎng)孔,又要符合銀微粒加工的條件,一般粒度能控制在3~5μm 已是很好


銀漿料高速分散機(jī)


銀漿料高速分散機(jī)的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是非常重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,思峻公司在GR2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出GRS2000超高速分散機(jī)。其剪切速率可以超過100.00 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到40m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強(qiáng)粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設(shè)備。


銀漿料高速分散機(jī)

影響分散機(jī)乳化均質(zhì)結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)

1 分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)

2 分散頭的剪切速率 (越大,效果越好)

3 分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)

4 物料在分散墻體的停留時(shí)間,乳化分散時(shí)間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)

5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)

線速度的計(jì)算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm


速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60


所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的。

選型表:

研磨分散機(jī)

流量

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW


GMSD 2000/4

300

14,000

41

4

DN25/DN15

GMSD 2000/5

1500

10,500

41

11

DN40/DN32

GMSD 2000/10

4000

7,200

41

22

DN80/DN65

GMSD 2000/20

10000

4,900

41

45

DN80/DN65

GMSD 2000/30

20000

2,850

41

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1,100

41

160

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的10%。






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